Радиолюбительская технология


Экспозиция (засветка)


Время, требуемое для экспонирования, зависит от толщины слоя фоторезиста и интенсивности источника света. Лак-фоторезист POSITIV 20 чувствителен к ультрафиолетовым лучам, максимум чувствительности приходится на участок с длиной волны 360-410 нм.

Лучше всего экспонировать под лампами, диапазон излучения которых находится в ультрафиолетовой области спектра, но если такой лампы у вас нет — можно использовать и обычные мощные лампы накаливания, увеличив время экспозиции. Не начинайте засветку до момента стабилизации освещения от источника — необходимо, чтобы лампа прогрелась в течение 2-3 минут. Время экспозиции зависит от толщины покрытия и обычно составляет 60-120 секунд при расположении источника света на расстоянии 25-30 см. Используемые пластины стекла могут поглощать до 65% ультрафиолета, поэтому в таких случаях необходимо увеличивать время экспозиции. Лучшие результаты достигаются при использовании прозрачных плексигласовых пластин. При применении фоторезиста с длительным сроком хранения время экспонирования может потребоваться увеличить вдвое — помните: фоторезисты подвержены старению!

Примеры использования различных источников света:

Источник света Время Расстояние Примечание
ртутная лампа Philips HPR125 3 мин. 30 см покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм
ртутная лампа 1000W 1,5 мин. 50 см покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм
ртутная лампа 500W 2,5 мин. 50 см покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм
кварцевая лампа 300W 3-4 мин. 30 см покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм
солнечный свет 5-10 мин. лето, в полдень, безоблачно покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм
лампы Osram-Vitalux 300W 4-8 мин. 40 см покрытие из кварцевого стекла толщиной 8 мм





Лампы УФ-излучения

Каждую сторону экспонируем по очереди, после экспозиции даем выстояться заготовке 20-30 минут в затемненном месте.


Начало  Назад  Вперед